文/夏峰琳 编辑/徐喆

近期，光刻机相关概念股备受资本市场关注。9月14日，苏大维格（300331.SZ）在互动平台表示， “公司光刻机已实现向国内龙头芯片企业的销售，并已实现向日本、韩国、以色列等国家出口。”随即点燃市场情绪，午后开盘股价迅速拉升，并实现20%涨停。

随后苏大维格做出澄清，表示公司出货并非如ASLM的EUV掩摸光刻机，而是激光直写光刻机。业内人士分析表示，激光直写光刻机可用于掩膜版的制造，芯片制造中的光刻机是极紫外光（EUV）作为光源的光刻机。

尽管同为“光刻机”，却谬之千里，上市公司在公开平台未能清晰表述导致股价异动，难免对市场存在误导。

9月15日，苏大维格收到深交所下发的关注函。不过，难挡投资者热情，虽低开6.43%，但盘中一度摸高至38.78元，涨幅达17.09%。随后震荡回调，截至收盘，报35元，上涨13.13%。

“光刻机”出货，公司股价20CM涨停

光刻机被业界誉为集成电路产业皇冠上的明珠，研发的技术门槛和资金门槛非常高。光刻机EUV（极紫外）光刻机、DUV（深紫外）光刻机。此外，更早也有i线和g线光刻机。上述均属于较为先进的半导体光刻机。除了半导体用，光刻机也用于面板、PCB（印刷电路板）的制造中。

随着芯片工艺的先进化，电路设计图日益精细和复杂，所需要的光刻精度也就越来越高，研发光刻机的技术要求、生产成本和生产难度都直线上升。迄今为止，世界上能自主研发和制造光刻机的厂商依然寥寥无几。

因而当苏大维格称，公司光刻机以实现向国内龙头芯片企业的销售，并已实现向日本、韩国、以色列等国家出口时，市场立刻被引爆，公司股价当日录得涨停板。

与此同时，也有投资者也追问：“公司光刻设备对比全世界同行业处于什么阶段？未来有没有和国内同行合作研发制造光刻机计划？”

对此，苏大维格也在互动平台表示，光刻机主要有两种类型。第一类是掩摸光刻机，如ASLM的EUV设备，好比“复印机”，把掩摸上的图形投射到硅片上，可用于各类芯片的批量生产，这类光刻机技术工艺和材料难度极高；第二类是无掩摸光刻机，也称直写光刻机，包括激光直写光刻机和电子束光刻机等，用于直接将数据转变成相关图形，好比“打印机”，可用于芯片/液晶掩摸、光模具及其他微结构的制备。

目前，公司对外销售的光刻机主要为激光直写光刻机，其中在科研教育领域具有一定的知名度和市场占有率，在其他行业和领域已实现的销售金额相对较小，部分应用领域离国际先进水平具有一定差距，需要持续的研发投入。

苏大维格进一步解释称，DUV和EUV在生产芯片过程中使用的掩摸板，需要直写光刻机机型进行制造。另据公司半年报，苏大维格光刻设备已实现向国内某芯片龙头企业实现销售，并向国内厂商提供应用于IC芯片投影式光刻机的核心部件定位光栅尺产品。

财务数据显示，2023年上半年，苏大维格实现营收为7.88亿元，较上年同期下滑10.47%。归母净利润方面仅1217.69万元，因去年同期基数仅137.66万元，同比增幅达784.54%。

对此，深交所也要求苏大维格结合不同类型光刻设备的技术路线的差异，补充披露公司所生产光刻设备的具体类型、主要客户及下游用途、以及最近一年一期境内外销售情况，并核实说明公司光刻设备是否能够直接用于芯片研发及制造、主要技术参数是否与业内龙头厂商存在较大差距，并进一步提示相关风险。

“纳米压印”实验室已实现10+nm

苏大维格在互动平台还提及“纳米压印”技术。在回复“纳米压印技术有没有替代EUV光刻机的可能性”时，苏大维格称：“根据相关资讯，佳能等国际厂商拟试图通过纳米压印技术在部分集成电路领域替代EUV光刻设备实现更低成本的芯片量产。”

关于纳米压印技术能否替代EUV光刻机，中国豪宅研究院院长城市运营专家朱晓红向观察者网表示：“纳米压印技术在一定程度上可以替代传统光刻技术。该项技术可通过直接对待刻制表面施加力、压力或应力，将图案传导到硅芯片上，可实现微米和纳米级别的图形转移。目前，该技术在柔性显示、纳米光电子设备制造等领域已具备商业应用，但在集成电路和芯片制造领域的应用还处于初级阶段，仍需进一步完善和发展。”

与非网副主编夏珍在接受媒体采访时则表示：“纳米压印可潜在替代EUV、DUV。当DUV（技术）再往下走，日本厂商并没有选择EUV，而是采用了‘纳米压印’（Nanoimprint Lithography，NIL）技术，来开发新一代的设备。纳米压印技术和现在市场上的光刻技术有所不同。基于光学的曝光机，也就是我们常说的光刻机，从Reticle（掩膜版）到晶圆是4：1的缩小比例，而纳米压印技术下的Reticle选用特殊加工方法，从Reticle到晶圆是等比例的。这意味着只要Reticle能做到5nm，就能压印出5nm的东西。”

夏珍还进一步介绍称：“目前基于纳米压印技术的设备还没量产，处于量产评价阶段，但从实验室的角度来看，已经实现了10+nm，未来将进一步拓展至5nm。”

另外，苏大维格也表示：“纳米压印光刻领域，公司设备主要为自用，对外销售金额与直写光刻机相比较小；与此同时，公司也开发了投影扫描的光刻设备，拟应用于光伏电镀铜图形化领域，目前尚未实现销售。”

对此，深交所要求苏大维格说明：“公司纳米压印技术的具体用途、研发情况，以及在集成电路领域的布局情况，并充分提示相关风险。”

除此之外，深交所还要求苏大维格核实说明公司控股股东、实际控制人，董事、监事、高级管理人员及其直系亲属、持股5%以上股东近1个月买卖公司股票的情况，未来3个月内是否存在减持计划，自查并说明你公司是否存在主动迎合市场热点炒作公司股价、配合相关股东减持的情形。

本文系观察者网独家稿件，未经授权，不得转载。